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濕法黑硅崛起 中勤推出解決黏片與痕跡的救星

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2017-04-20  來源:歐樂光伏網(wǎng)  瀏覽次數(shù):21
核心提示:專注在客制化玻璃、晶圓傳載及儲存設(shè)備的中勤實業(yè),將于2017年4月19日至21日參加SNEC第十一屆(2017)國際太陽能產(chǎn)業(yè)及光伏工程(上海)展覽會暨論壇(SNEC PV POWER EXPO,攤位號碼E1-113/115),展出各類型儲存載具及新產(chǎn)品開發(fā)成果,更重點展示「奈米材質(zhì)太陽能芯片卡匣」,可解決濕法黑硅黏片與痕跡,提供專業(yè)產(chǎn)品整合規(guī)劃服務。
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專注在客制化玻璃、晶圓傳載及儲存設(shè)備的中勤實業(yè),將于2017年4月19日至21日參加SNEC第十一屆(2017)國際太陽能產(chǎn)業(yè)及光伏工程(上海)展覽會暨論壇(SNEC PV POWER EXPO,攤位號碼E1-113/115),展出各類型儲存載具及新產(chǎn)品開發(fā)成果,更重點展示「奈米材質(zhì)太陽能芯片卡匣」,可解決濕法黑硅黏片與痕跡,提供專業(yè)產(chǎn)品整合規(guī)劃服務。

提升轉(zhuǎn)換率與降低成本一直是光伏產(chǎn)業(yè)的重點,針對先進濕法黑硅技術(shù),中勤推出『奈米材質(zhì)太陽能芯片卡匣』,利用奈米分子與現(xiàn)行之材料作結(jié)合,其特殊材質(zhì)可搭配應用于所有太陽能卡匣(高分子塑料產(chǎn)品)上。利用特殊的堿蝕刻溶液材料提高載具高分子塑料材物性及高耐化學性、高耐溫性,有效增加光線吸收率,提高轉(zhuǎn)換效率達超過19%。特殊的制程設(shè)計,無需額外零件,即可將側(cè)板及側(cè)柱連接在一起,更因為材料的斥水性,產(chǎn)品可快速干燥,解決黑硅黏片與表面痕跡,減少『水印痕』的產(chǎn)生??s短干燥時間達一半以上,可在制程上降低其溫度,減少添加劑用量并降低成本,提升產(chǎn)能、有效節(jié)能減碳,減少50%以上的耗電量。

中勤以『紅外線穿透式熱傳導百點熔接法』的無縫隙技術(shù)及搭配材料化學實驗,打造『會呼吸的材料』,將開發(fā)的奈米氟經(jīng)過氮化處理,材料本身布滿碳管纖維互通的組織,具有吸氣、排氣功能,能夠迅速分解水滴、排除水份,達到水滴不殘留、速干且節(jié)能之效果??山档蛪A蝕刻制程(制溶制程ALKLINE)中的隔槽污染問題,提高硅片良率。氮化奈米氟潔凈度高材料的技術(shù)優(yōu)勢,每一個產(chǎn)品都是搭配自動化設(shè)備傳輸系統(tǒng),產(chǎn)品高精確度,在制造過程中嚴謹?shù)恼瓶禺a(chǎn)品尺寸,引進國外影像量測技術(shù),每一個產(chǎn)品皆有其序號的全尺寸自動化量測。多方面掌控下,只要是與硅片接觸有關(guān)的,無論是承載用的純粹傳輸、或是在濕制程的領(lǐng)域,在全球光伏產(chǎn)業(yè)市占率約已達80%以上??蛻羧罕榧皟砂度?、日本及歐美市場,廣獲好評。

中勤憑借著技術(shù)上的領(lǐng)先地位,掌握了快速與彈性的客制化設(shè)計,承載硅片的數(shù)量可以依據(jù)我們的設(shè)計方案增加,如本次展出的150 slot 載具。因應市場需求變化,推出『奈米側(cè)鏈聚四氟乙烯卡匣』,nPF 為超高性能高分子結(jié)構(gòu)復合工程塑料,具有耐高溫(長期使用溫度 260°C)、耐化學腐蝕等優(yōu)越特性,材料主接口廣泛用于光電、半導體制程和很多電器的應用。為了避免內(nèi)應力,在nPF 使用 370°C 的高溫及低填充技術(shù)速度一體成型,無使用任何塑焊。我們提供的nPF 系列復合塑料改質(zhì)范圍包括: 導電、結(jié)構(gòu)補強、特殊顏色效果....等各種特殊功能配方,并可依客戶產(chǎn)品特性要求,配制客制化復合配方以充分滿足客戶需求。

未來全球發(fā)電量能否足以因應未來產(chǎn)業(yè)發(fā)展受到各方業(yè)界關(guān)切,在綠色制造上的目標方面,中勤也加入裝載太陽能發(fā)電系統(tǒng),規(guī)劃是在2025年時用電量將平均減少18%,其中,舊有設(shè)備用電量將減少10%、新設(shè)備用電量則將大幅減少20%,同時維持資源回收率約75%。


 

中勤于4月19日至21日參加2017 SNEC PV POWER EXPO,展出各類型儲存載具及新產(chǎn)品開發(fā)成果。

 

 
關(guān)鍵詞: 上海 SNEC 中勤

 
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